原來（lái）這些直（zhí）讀光譜儀的誤差是可以避免，你（nǐ）知（zhī）道嗎？

光電直讀光（guāng）譜儀雖然本身測量準確度很高，但測定試樣中元素含量時， 所得結（jié）果與真實（shí）含量通常不一（yī）致（zhì），存（cún）在一定誤差，並且受諸（zhū）多因素的影響，有的材料本（běn）身含（hán）量就很低。下麵就誤（wù）差（chà）的種類、來源及如何避免誤差進行分析。

根據誤差的性質及（jí）產生原因， 誤差可分為下麵幾種：

1.係統誤差的來源

(1)標樣和（hé）試樣中的含（hán）量和化學（xué）組成不完（wán）全相同時，可能（néng）引起基體線和分析線的強度改（gǎi）變，從而引入誤（wù）差。

(2)標樣和試樣的物理性能不完（wán）全相同時，激發的特征譜線會有差別從而（ér）產生光電（diàn）直讀光譜儀係統誤差（chà）。

(3)澆（jiāo）注狀態的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態的鋼樣金屬（shǔ）組織結（jié）構不相同時（shí），測（cè）出的數據會（huì）有所差別。

(4)未知元素譜線的重疊幹擾。如熔煉過程中加入脫（tuō）氧劑、除（chú）硫磷劑（jì）時，混入未知（zhī）合金元（yuán）素而引（yǐn）入係統誤差。

(5)要消除係統（tǒng）誤差，必須（xū）嚴格按照標準樣品製備規定要求。為了檢查係統誤差，就需要采（cǎi）用化學分析方法（fǎ）分析多次校對結果。

2.偶然誤差的來源

與樣品成分（fèn）不均勻有關的誤差。因（yīn）為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中（zhōng）元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同而產生偶然（rán）誤差。主要原因如下：

(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產生的偏析等造成樣品元素分（fèn）布不均。

(2)試樣的缺（quē）陷、氣孔、裂紋、砂眼等。

(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨（mó）過熱（rè）、試樣磨麵放置時間太長（zhǎng）和壓上指紋（wén）等因（yīn）素。

(4)要減少偶然誤差，就要精（jīng）心取樣（yàng），消除試樣的不均（jun1）勻性及（jí）試樣的鑄造缺陷，也可（kě）以（yǐ）重複多次分（fèn）析來（lái）降（jiàng）低分析誤差（chà）。

3.其（qí）他因素誤差

(1)氬（yà）氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時（shí），會使激發斑點變壞。如果（guǒ）氬氣管道與電極架有汙染物排不出去（qù），分析（xī）結果會變差。

(2)室內溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容（róng）易導致高壓元件發生漏（lòu）電、放電現象，使分析結果不穩定。

如（rú）何避免（miǎn）誤（wù）差：

(1)試樣表麵要平整，當試樣放在電（diàn）極架上時，不能有漏氣現象。如有漏氣，激發時聲音不正常。

(2)樣品與控製標（biāo）樣的磨紋粗細要一致，不能有交叉（chā）紋，磨樣用力（lì）不要過大，而且用力要均勻，用力過大，容易造成試樣表麵氧化。

(3)對（duì）高鎳鉻鋼磨樣時，要使用新砂輪片（piàn）磨樣，磨紋操作要求更嚴格。

(4)試樣不能（néng）有偏析、裂紋（wén）、氣孔等缺（quē）陷（xiàn），試樣要（yào）有一定的（de）代表性。

(5)電極（jí）的頂尖應具有一定角度，使（shǐ）光軸不偏離中心，放電間隙應保持不（bú）變，否則聚焦在分光儀的譜線強（qiáng）度會改（gǎi）變。多次重複放電（diàn）以後，電極會長尖，改變了放電間隙。激（jī）發產生的金屬（shǔ）蒸氣也會汙染電極（jí）。所以必須激發一次後就用刷子清理（lǐ）電極。

(6)透鏡（jìng）內表麵常常受到來（lái）自（zì）真空泵油蒸氣的汙染，外表麵受（shòu）到分析時產生金屬蒸（zhēng）氣的附著，使透（tòu）過率明顯降（jiàng）低，對波長小於200nm的碳、硫、磷譜線（xiàn）的透過率影響更顯著，所以（yǐ）聚光（guāng）鏡要進行定期清理。

(7)真空度不夠高會降低分析靈敏度， 特（tè）別是波長小於200nm的元素更明（míng）顯， 為此要求真（zhēn）空度達0.05mmHg。

(8)出射狹縫的位置變化受溫度的影響大，因此保持分光室內恒溫30℃很重（chóng）要，還要求室內溫度保持一致，使出射狹縫不偏離正常。