電子級多晶矽是國家發(fā)展集成電(diàn)路產業的基礎原材料,是純度最高的多晶矽材料。相對於太陽能級多晶矽99.9999%純度,電子級多(duō)晶矽的純度要求達到99.999999999%。電子級多晶矽其中的雜質含量(liàng)更是得以0.1ppb的數量級計。本文(wén)參(cān)照標準《GB/T 37049-2018 電子級多晶矽中基(jī)體金(jīn)屬(shǔ)雜質含量的測定 電感耦合等離子體質譜法》使用
實驗(yàn)電熱板HT-300消(xiāo)解、ICP-MS測定(dìng)電子級多晶矽(guī)中鐵、鉻、鎳、銅、鋅、鈉的含量。
PS:本方法適用於基體金屬雜質(zhì)小於5ng/g範圍內鐵、鉻、鎳、銅、鋅、鈉含量的測定。本(běn)方法對於鐵、鉻、鎳、銅、鋅、鈉六種元(yuán)素(sù)的總檢出限至少應小(xiǎo)於0.4ng/g。
1.實驗部分
1.1儀器(qì)和耗材 實驗電熱板HT-300(玻璃陶瓷台麵耐腐(fǔ)蝕,
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燒杯(50ml)
電子天平
ICP-MS
1.2試劑 純水(shuǐ):符(fú)合SEMIF63的規定。
硝酸:質量分數65.0%~68.0%,每種金屬雜質含量均低於10ng/L。
氫氟酸:質量分數30.0%~50.0%,每種金屬雜質含量均低於10ng/L。
硫(liú)酸:質量分數(shù)95.0%~98.0%,每種金屬雜質含量均(jun1)低於10ng/L。
標準貯存溶液:鐵(tiě)、鉻、鎳、銅、鋅、鈉、釔、鈷濃(nóng)度均為1g/L,采用國內外可以量值溯源的有證標準物質。
硫酸:用純水將上述硫酸稀釋至質量分數為(wéi)16.7%。
硝酸:硝酸、純水的體積比為3:97或其他(tā)適當比例。
消解液:硝(xiāo)酸、氫氟酸(suān)的體(tǐ)積比為(wéi)1:2或其他適(shì)當比(bǐ)例。
1.3樣品製備 將電(diàn)子級多晶(jīng)矽樣品破碎成便於(yú)溶解的小塊,最大直徑約5mm~10mm,破碎過程中應嚴格避免金屬沾汙。將樣品在一定比例的硝酸、氫氟酸溶液(yè)中消解清洗,剝離全部表麵層後再用純水洗淨。將樣品放置在燒杯(bēi)中,置於實驗電熱板HT-300上烘幹至恒重。
1.4測試步驟 1.4.1在電子天平上準確稱取0.5~1.0g試樣(精確至(zhì)0.0001g);
1.4.2將樣品置於具有(yǒu)適當容積的、潔淨的敞口容器中(zhōng),加入適量的消解液,置於實驗(yàn)電熱板HT-300上加熱使試料溶解後(hòu),在160℃~170℃下將溶液蒸發至近幹,必要時重複消解(jiě)過程。室溫冷卻後,加入(rù)適量(liàng)的硝酸(suān)定容(2mL~5mL,滿足儀器(qì)檢測即(jí)可),充分搖動使殘渣完全溶解至試液為澄清(qīng)透明,搖勻。
1.4.3進(jìn)行儀器分(fèn)析,將樣品空白溶液、樣品溶液和標準係列工作溶液分別在ICP-MS上進行分析,以釔和鈷標準工作溶液為內標,用內標法校正。樣品中(zhōng)各待(dài)分析元素(sù)和內(nèi)標元素質量數(shù)的選擇見下表:
1.4.4分析結(jié)果的計算(suàn)
各金屬雜質的含量以其質(zhì)量分數ωx表(biǎo)示,按以下公式計算:
式中:
ωx——樣品中鐵、鉻、鎳、銅、鋅、鈉的質量分數,單位為納克每克(ng/g);
ρ1——空白溶液中待(dài)測元素的質量濃(nóng)度,單位為納克每毫升(ng/mL);
ρ2——樣品溶(róng)液中待測元素的質量濃度,單(dān)位為納克每毫升(ng/mL);
V——樣(yàng)品溶液的體積,單位為毫升(mL);
m——試料的質量,單位為克(g)。
2.結論
電子級矽材料的分析對設備、試(shì)驗(yàn)人員、原料、方法等方麵要求高。實驗中使用的加熱消解設備是格(gé)丹納實(shí)驗電熱板HT-300,其台麵是玻璃陶瓷材質,耐(nài)酸堿之餘還容易清潔,針對氫氟酸還配置保護膜,防止滴落腐蝕台麵。而且電熱板的麵積無固定限製,可以根(gēn)據自己日常(cháng)處理樣品的多少而自由選擇。在處理的過程(chéng)中還(hái)可以根(gēn)據時機,添(tiān)加需要的試劑,避免(miǎn)了密閉容器不容易添加試劑的苦惱。在處理中由於(yú)可以(yǐ)方便的看出所處理樣品的狀態、消解程度以及剩餘樣品量的多少(shǎo)。