直（zhí）讀光譜SPECTRO LAB S在矽青銅（tóng）中雜質元素的應用

矽青銅是銅（tóng）合金青銅中的特定牌（pái）號，其包括Qsi3-1 ，Qsil -3 ，Qsi0.6-2 ，其要求分析檢測九個元素，由於（yú）分析元素多，標準含量低，使得分析檢測難度較（jiào）大，根據光電直讀光譜儀的特點，製作了矽青銅的工作曲線和分析程序，並進行了比（bǐ）較，滿足了矽青銅的分（fèn）析要求，檢（jiǎn）測結果準確可靠，保證了分析檢測的（de）及時、快速（sù）、準確，節省了大量的人力（lì）和物力。

儀器
直讀光譜分析儀SPECTRO LAB S（德國斯（sī）派克公（gōng）司）

實驗（yàn）部（bù）分（fèn）

國（guó）家標準樣品Qsi313，成分如下表。

比對校核（hé）

取矽青銅標樣Qsi1-3進行分析（xī），每個樣品分析三次取平（píng）均值，與化學定（dìng）值結果比對（duì），列出部分代（dài）表性元素，具體結果見表。

從表中數據可以看出，其分析結果與（yǔ）化學定（dìng）值一致性（xìng）良好，差值小於允許差，說明該分析方法可（kě）靠，準確度高。

精密度

取已定值的國家標準樣品Qsi313-923-11， 進行（háng）精密度試驗，連續激發12次，計算平均值、標準偏差、相對偏（piān）差（chà），結果見表。

精密度檢驗（%）

從表數據中可以看出，各元素（sù）的RSD值均在0.87%~8.39%，精密（mì）度非常高，完全滿足標準要求。

通過（guò）試驗，證明該分析方法簡便快速，精密度和準確度高，能夠滿足矽（guī）青銅在日常分（fèn）析（xī）檢測的要求，在日常分（fèn）析（xī）檢測中（zhōng），隻要保證試樣麵符合分析要求，就能夠保證分析的準確性。

40多年來（lái），SPECTRO全心投（tóu）入開發（fā）出（chū）世界先進的發射光譜儀。今天，斯派克公司完美引入（rù）CMOS探測器（qì）技術，徹底改變了高端電弧/火花分析技（jì）術（shù）的走（zǒu）向及未來。在所有同類分析（xī）儀中，SPECTROLAB S所提（tí）供（gòng）分析速度（dù）超出（chū）想象，低元（yuán）素檢測限，同時也可以提供超長的正（zhèng）常運行（háng）時間和非常具有前瞻性的靈活（huó）性。

SPECTRO LAB S 擁有世（shì）界上第一個基於CMOS的探測器的記錄係統，該係統非（fēi）常適合於（yú）高端金屬分析。從微量元（yuán）素到多基體應用，它提供了快速、高度準確、異常靈活的技術選擇。

樣品的分析速度是儀器先進性（xìng）的重要標誌，SPECTRO LAB S的推出完全滿足了金屬分析市場對速度（dù）的需求。例如：當檢測低合金鋼時，它可以在20秒或更短的時間內提供高準確度（dù）的測量值！

從技術指標和實（shí）際使用效果看，SPECTRO LAB S均是適合金屬冶（yě）煉廠的測試需求。對於金屬再加工（gōng）生產（chǎn）商、汽車和航（háng）空（kōng）航天製造商、以及成品和半成（chéng）品、電子產品、半導體等製（zhì）造商來說，可以給出的解決方案同樣出色。

創新點

1、獨立雙光（guāng）室，確保所有分析譜線都獲得很高分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的專用光學係統。一個光室精確測（cè）量（liàng）波長從120到240納米（nm）;另一個光室，波（bō）長範圍從210到（dào）800納（nà）米（nm）。 兩（liǎng）個光室都采用先進（jìn）的CMOS檢測器，具備恒溫裝（zhuāng）置和壓力補償功能。

2、等離子（zǐ）發生器數字光源和點火板可靠的新型高能（néng）LDMOS等（děng）離子發生器光源（yuán），為SPECTROLAB S 輸出高穩定的火花放電，頻率高達1000 Hz，隻需要很（hěn）短的時間即可完成測試，例如分析低合金鋼小於 20 秒。該係統還允許特（tè）定應用的（de）火花參數設置，以（yǐ）優化分（fèn）析性能。

3、精密氬（yà）氣控製係統 SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據分析程序（xù）精密設置氬氣流量。節（jiē）約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花台，無需管道連接，避免漏氣。

4、火花台清理間隔大大延長（zhǎng） 堅固的陶瓷內芯避免（miǎn）積塵粘附。流暢的氣路設計確保了很少的（de）粉塵殘留（使得（dé）清理間（jiān）隔時（shí）間（jiān）延長（zhǎng）了8倍）；對於大樣品量輸出的全自動光譜儀係統尤為重要。

5、快（kuài）速讀出係統 斯派克的GigE創（chuàng）新讀出係統確保海量（liàng）數據的（de）極速處理，從而支持卓越的儀器性能表現。實現了（le）獨特的全光譜（pǔ）範圍譜圖記錄。

6、低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術，在關鍵元素的檢測限方（fāng）麵（miàn），超越光電倍增管技術的性能。通過配置參比通道，工（gōng）作曲線可（kě）以獲得很好優化，可以快速定量分析ppm量級的高純金屬或合金中的痕量元素。

7、元素在低合（hé）金鋼中平均檢（jiǎn）測（cè）限改善2倍，元素在純鋁（lǚ）中的平均檢測限改善（shàn）5倍。

8、單一標樣實現（xiàn）整個係統的標準化, 此項每天可節省30分鍾工作時間。